طراحی و شبیه سازی یک ترانزیستور SOI-MOSFET چند لایه‏ ای برای بهبود اثرات خود گرمائی

نویسندگان

چکیده

این مقاله طرح جدیدی برای ساختار ترانزیستورهایSOI-MOSFET به عنوان راهکاری مناسب برای کاهش اثرات مخرب پدیده خودگرمایی ارائه می دهد. ایده اصلی در ارائه این ساختار نوین٬ استفاده ازماده Si3N4 می باشد که دارای هدایت گرمائی بالاتری نسبت به اکسید سیلیسیم است. همچنین به کمک شبیه سازی دو بعدی٬ عملکرد این ساختار مورد تجزیه و تحلیل قرار گرفته است. نتایج بدست آمده نشان می دهند که ساختار SOI-MOSFET چند لایه ای می تواند نقش بسزایی در انتقال گرما به لایه های زیرین لایه مدفون داشته و از افزایش گرما در کانال جلوگیری نماید.

کلیدواژه‌ها


عنوان مقاله [English]

DESIGN AND SIMULATION OF A MULTILAYER SOI-MOSFET STRUCTURE FOR IMPROVING SELF-HEATING EFFECTS

نویسندگان [English]

  • Orouji
  • Heydari
چکیده [English]

In this paper, a new silicon-on-insulator (SOI) device structure is proposed to reduce self-heating effects. Using Si3N4 material is main idea in the structure that has high thermal conductivity respect to silicon dioxide. The device has been verified in two-dimensional device simulation. The results show that the structure provides a new path to reduce the temperature of the channel of SOI Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor (MOSFET) and decreases the temperature in the channel.

کلیدواژه‌ها [English]

  • Field Effect Transistor
  • Silicon on Insulator
  • Self-heating effect